理光投影机亮相谭平个展，超短焦完美呈现新艺术

  

    [投影之窗消息]  2012年12月7日-13日，中国最重要的国家美术馆--中国美术馆迎来了一场重量级的展览--《谭平个展：｜劃》。这是首个进入中国美术馆主展厅的抽象艺术家展览，通过对中央美术学院副院长谭平在油画、版画领域的作品梳理，展现这位中国最著名的抽象艺术家的创作脉络。同时，此次展览也独创性地运用了互动影像等新媒体形式，来自全球领先的数字办公解决方案和文档管理服务提供商--理光的超短焦投影机以卓越科技完美诠释了当代新兴艺术的魅力。
 
    本次个展上，谭平以艺术的全球观念，运用抽象艺术语言的链接，创造了东方、西方不同文化在同一时空中的精彩聚汇。展览中最重要的作品《+40m》，正是运用了理光超短焦投影机PJ WX4130/WX4130N投射展示，艺术的诗意与科技的光芒交相辉映，勾起无限回响。新媒介的使用将抽象艺术创作带入了当代艺术的前端，也将改变传统的观看方式与展览形态。

《谭平个展：｜劃》--作品展示现场 >>>

     　

　 　
理光PJ WX4130N投影机是目前世界上最小、最轻及
投射距离最短的超短焦投影机
    作为影像信息科技的领先企业，理光始终关注科技产品在艺术界的应用，旨在带领艺术爱好者、设计者、会展人领略数码投影科技的新境界。本次个展采用理光投影机PJ WX4130、PJ WX4130N，是目前世界上最小、最轻及投射距离最短的超短焦投影机。该机仅重3公斤，采用自由曲面镜及曲折光学系统，可以收集更多的光线并减少反射次数，不到25cm的距离可以投射80英寸大屏幕画面，实现更精准高效的投影。行业内首创的垂直摆放设计，利于节省有限空间，可以在一般投影机无法使用的小型空间中使用。凭借优秀内涵和杰出外形，该机型日前还获选了2012年度IDEA国际杰出设计大奖。在优雅和谐的展厅内，这款产品也不显突兀，成为艺术品的延伸。

中央美术学院讲师及交互设计实验室负责人
彦风对理光超短焦投影机赞誉有加
 
    当代艺术家谭平表示：“在此前举办的个展上就曾与理光有过合作，感谢理光投影机对我作品展的大力支持。在当代艺术中，作品的呈现除去作品本身之外，展示设计成为一个越来越重要的组成部分。而随着图像时代的来临，观众对视觉需求逐渐增强，传统的展示方式——纸媒展示已经不能满足展览的多元化需求，影像成为一个运用更加广泛以及有更多可能性的艺术媒介，参与到展示设计、乃至于艺术创作中来。在展示作品创作过程的同时，也成为展览视觉空间中不可替代的一部分。”
 
    随着新媒体艺术近年来的蓬勃发展，投影机已不仅仅是投影工具，还将成为作品自身的一部分。如何将影像科技与艺术进行完美融合，创造出更丰富的视觉感官体验，不仅是艺术家们的目标，也是理光的追求。正如“imagine. change”（想象 改变）的品牌精髓所倡导的，理光坚信其未来在影像科技和信息沟通领域将有更加深远的拓展，为新媒体艺术开辟一个全新“视”界。


关于理光

理光集团是一家提供办公影像设备、生产型印刷系统、文档管理系统以及相关IT服务的全球性科技企业。总部位于日本东京，在全世界超过200个国家和地区拥有分支机构。截止2012年3月底，集团年营业额超过230亿美元。
理光始终致力于在人与信息的沟通中创造客户价值，提供更广泛的办公设备、解决方案和外包服务，产品包括数码复合机、打印机、传真机、数码印刷机、生产型印刷系统、投影仪等，以及屡获殊荣的数码照相机和专业领域的工业品，凭借其先进技术、卓越品质、优良服务和积极创新的精神倍受广大用户赞誉。正如新一轮理光广告语所倡导的理念--“imagine. change.”，理光集团将竭尽所能帮助用户变革工作方式，优化企业资源，最终实现成功。查询更多相关资讯，欢迎访问: www.ricoh.com.cn